Съдържание:
- Определение - Какво означава екстремна ултравиолетова литография (EUVL)?
- Техопедия обяснява екстремната ултравиолетова литография (EUVL)
Определение - Какво означава екстремна ултравиолетова литография (EUVL)?
Екстремалната ултравиолетова литография (EUVL) е усъвършенствана, високо прецизна литографска техника, която позволява производството на микрочипове с функции, достатъчно малки за поддържане на 10 Ghz тактови скорости.
EUVL използва суперзареден ксенонов газ, който излъчва ултравиолетова светлина и използва много прецизни микро огледала, за да фокусира светлината върху силиконовата пластинка, за да произведе още по-фини ширини на характеристиките.
Техопедия обяснява екстремната ултравиолетова литография (EUVL)
За разлика от тях, EUVL технологията използва ултравиолетов източник на светлина и лещи за фокусиране на светлината. Това не е толкова точно поради ограничението на лещите.
Процесът на EUVL е следният:
- Лазерът е насочен към газ ксенон, който го загрява, за да създаде плазма.
- Плазмата излъчва светлина на 13 нанометра.
- Светлината се събира в кондензатор и след това се насочва към маска, която съдържа оформлението на платката. Маската всъщност е само модел на изображение на един слой от чипа. Това се създава чрез прилагане на абсорбатор върху някои части на огледалото, но не и върху други части, създавайки схемата на схемата.
- Моделът на маската се отразява върху серия от четири до шест огледала, които стават постепенно по-малки, за да свият размера на изображението, преди да се фокусира в силиконовата вафла. Огледалото леко огъва светлината, за да формира изображението, подобно на това как комплектът от обективи на камерата работи за огъване на светлина и поставяне на изображение върху филм.
